目前台积电、英特尔和三星等头部的晶圆制造商积极地发展尖端先进制程工艺，希望在单位面积内塞入更多的晶体管，以维持摩尔定律的继续有效。为此，他们在7nm制程上就都已经采用了售价高达1.5亿欧元的EUV光刻机，而未来进入2nm以下的埃米级制程则需要采用 ...

9月19日消息，据Tom's hardware报道，台积电作为全球最大的先进制程晶圆代工厂，不仅拥有着全球最先进的制程工艺，也拥有着数量最多的ASML EUV光刻机。自2019年以来，台积电通过自身的系统级优化及自研EUV光罩保护膜（Pellicle，保护光罩的薄膜）材料，EUV生产晶圆 ...

数十年来，光刻一直是关键的芯片生产技术。今天它仍然很重要。焦虑、紧张和忧虑或许适合用来描述今天的光刻领域。但也许后头还有更严重的苦难，因为三个主要的下一代候选光刻技术──EUV、无光罩和纳米压印──统统迟到。第四个NGL选项：DSA尽管 ...

EUV 的故事始于 1980 年代中期的日本，当时，在 70 年代俄罗斯完成的多层镜研究的基础上，Hiroo Kinoshita 投影了第一张 EUV 图像。美国和荷兰的实验室很快也开始探索这一潜在的光刻技术新发展。最初被称为“soft x-ray”光刻，“extreme ultraviolet”这个名称的灵感来自 ...

众所周知，目前全球只有ASML一家能够研发出EUV光刻机。 而EUV光刻机，又是所有芯片制造企业，进入7nm以下工艺的必备设备，所以说，这也相当于ASML卡住了全球所有芯片制造企业的脖子，只要想进入7nm以下，就得找ASML。 但ASML在销售ASML光刻机时，自己说了不算 ...

众所周知，在芯片领域有一种特别重要，特别受关注，同时中国技术又相对落后的设备，那就是光刻机，芯片制造必不可少的设备之一。 特别是EUV光刻机，目前全球仅ASML一家能够制造，很多人称EUV光刻机是人类建造的最复杂的机器之一，所以ASML也被很多人奉上 ...

我国首个EUV光刻胶标准立项。 国家标准委网站显示，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日。标准的起草单位包括上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海 ...

中国光刻机行业主要上市公司：芯源微(688037)、华特气体(688268)等。 本文核心数据：全球EUV光刻机销量、全球EUV光刻机销售额等 1、EUV光刻机于近十年间兴起 随着半导体技术的更新换代，光刻机也从最开始的g线(436nm)逐渐发展为近十年间兴起的EUV光刻机，从接触式 ...

作为全球第一大光刻机厂商，也是唯一掌握EUV光刻机技术的厂商，理论上而言，ASML的日子是相当滋润的。 毕竟EUV光刻机是制造7nm以下芯片必备机器，所以全球的顶尖芯片厂，都要抢ASML的EUV光刻机，看它的脸色行事，它卡着全球芯片厂商的脖子啊。 但是，从最近 ...

8月7日消息，近日日本冲绳科学技术大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授带领的研究团队提出了一项全新、大幅简化的面向极紫外（EUV）光刻机的双反射镜系统。 相比传统的至少需要六面反射镜的配置，新的光学投影系统仅使用了两面反射镜，在确保系统维持较高的 ...

一直以来，光刻技术的进步对更细微的半导体工艺节点至关重要。由于预测到浸润式光刻技术之扩展能力存在局限性，业界不断追求着下一代光刻技术。并且提出了几种技术，涵盖极紫外光(EUV)光刻、多波束电子束光刻、纳米(nm)压印光刻及嵌段共聚物的定向自 ...

High NA EUV突破：英特尔季产3万片，imec 20nm良率90%，美光首用DRAM。 EUV技术自从其提出以来，面临着多重挑战，包括高成本、复杂的光学系统以及需要在高精度下制造光罩等。然而，随着技术不断成熟，EUV逐渐突破了制程限制，尤其在10nm及以下的制程中展现出了其 ...