Microtech LW405D激光直写光刻系统是一款专为科研实验室和小型超净室设计的多功能光刻系统，由美国麻省理工林肯国家实验室研发，旨在实现快速微纳米加工和小规模生产。该系统采用先进的对准机制，结合激光直写技术，能高效地处理大面积结构，同时减少使用昂贵且耗时的电子束刻蚀。Microtech ...